ELCO宜科E0B6-H4AR-1000线缆安装
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 兰斯特(武汉)自动化系统工程有限公司

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ELCO公司长期以来一直致力于值编码器的研究，以优异的产品性能和丰富的产品种类深受广大用户的好评
ELCO值产品有着丰富的产品系列。从小型的单圈EAB50产品到大型的多圈PAM90产品，从的Φ6轴径到的Φ28轴径，从工业标准型产品EAC58到重载EVM115系列等，无一不体现着其家族成员的壮大。此外，ELCO产品有着丰富的信号输出类型，包括串口SSI、模拟量4～20mA、并口的推挽输出以及现场总线Profibus-DP，CANopen，DeviceNet等，涵盖了绝大多数的现场工况。
按照精度需求，其分辨率从单圈的10bits到多圈的30bits可供选择，防护等级高达IP67，更有-40～+80°C宽温度范围应用。
其标准58产品具备轴型、盲孔型、通孔型安装方式选择，方便现场安装调试。

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工业控制技术的革新——ELCO值编码器
在传统的工业控制中，无论是速度反馈还是由速度转化的位移控制，增量编码器一直扮演着重要的角色。在对位移量控制时，以其转动时输出的脉冲配合计数设备来计算当前位置，当编码器不动或断电时，依靠计数设备的内部记忆来记住位置。这样，当断电后，编码器不能有任何的移动，当来电工作时，编码器输出脉冲过程中，也不能有干扰而丢失脉冲，否则，计数设备计算并记忆的零点就会偏移，而且这种偏移的量是无法预知的，只有错误的生产结果出现后才能知道。 [1]
通常解决的方法是增加参考点，编码器每经过参考点，将参考位置修正进计数设备的记忆位置。在参考点以前，是不能***位置的准确性的。需要设备在每次操作时先开机找零，这样会在实际操作中带来很烦。有些地方甚至不允许开机找零（开机后就要知道准确位置），于是出现了值编码器。

PCVD法沉积温度低，膜基结合力及工艺绕镀性均较PVD法有较大改进，但与扩散法相比，膜基结合力仍有较大差距，此外由于PCVD法仍为等离子体成膜，虽然绕镀性较PVD法有所改善，但无法消除。由扩散法金属碳化物覆层技术形成的金属碳化物覆层，与基体形成冶金结合，具有PVPCVD无法比拟的膜基结合力，因此该技术真正能够发挥超硬膜层的性能优势，此外，该技术不存在绕镀性问题，后续基体硬化处理方便，并可多次重复处理，使该技术的适用性更为广泛。